برقراری ارتباط
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
URL: http://opsi.ir/article-1-1363-fa.html
لایه های نازک نانوساختار اکسید مس با استفاده از محلول کلرید مس به روش رسوب گداری حمام شیمیایی بر روی زیرلایه شییشه لایه نشانی ، و سپس در بازه های زمانی 1 و 2 ساعت در حضور گاز آرگون در دمای °C 300 بازپخت داده شدند. نمونه ها با استفاده از تصاویر FESEM، طیف های XRD و UV-Vis تحت بررسی قرار گرفتند. دریافتیم که لایه ی نانوساختار اولیه به صورت بس بلوری تک فاز (CuO) در ساختار مونوکلینیک و با جهت گیری ترجیحی (111-) رشد یافته است، اما پس از بازپخت فاز اضافی Cu2O نیز ظاهر شده است. تحلیل داده های جذب نوری نشان داد که با افزایش زمان بازپخت کاف تواری اپتیکی نمونه کاهش می یابد.
بازنشر اطلاعات | |
این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است. |