اشتراک در خبرنامه
لطفاً نشانی پست الکترونیک خود را برای دریافت اطلاعات و اخبار پایگاه در کادر زیر وارد کنید.
آمار سایت
- کل کاربران ثبت شده: 1962 کاربر
- کاربران حاضر در وبگاه: 0 کاربر
- میهمانان در حال بازدید: 267 کاربر
- تمام بازدیدها: 21894547 بازدید
- بازدید ۲۴ ساعت گذشته: 45595 بازدید
کنفرانس های انجمن
همایش
اپتیک و فوتونیک،
بهمن 1403
(برگزار شد)
استفاده از مطالب ارائه شده در این پایگاه با ذکر منبع آزاد می باشد.
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:



URL: http://opsi.ir/article-1-1363-fa.html




لایه های نازک نانوساختار اکسید مس با استفاده از محلول کلرید مس به روش رسوب گداری حمام شیمیایی بر روی زیرلایه شییشه لایه نشانی ، و سپس در بازه های زمانی 1 و 2 ساعت در حضور گاز آرگون در دمای °C 300 بازپخت داده شدند. نمونه ها با استفاده از تصاویر FESEM، طیف های XRD و UV-Vis تحت بررسی قرار گرفتند. دریافتیم که لایه ی نانوساختار اولیه به صورت بس بلوری تک فاز (CuO) در ساختار مونوکلینیک و با جهت گیری ترجیحی (111-) رشد یافته است، اما پس از بازپخت فاز اضافی Cu2O نیز ظاهر شده است. تحلیل داده های جذب نوری نشان داد که با افزایش زمان بازپخت کاف تواری اپتیکی نمونه کاهش می یابد.
بازنشر اطلاعات | |
![]() |
این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است. |