[صفحه اصلی ]   [Archive] [ English ]  
:: جلد 22 - مجموعه مقالات پذیرفته و ارائه شده در بیست و دومین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران ::
ICOP & ICPET سال22 صفحات 640-643 برگشت به فهرست نسخه ها
ساخت سیلیکان متخلخل در تخلخل های مختلف جهت کاربردهای رسانای نوری
خانم مریم قزل ایاغ* 1، آقا رضا ثابت داریانی1
1- دانشگاه الزهرا
چکیده:   (1157 مشاهده)

سیلیکان متخلخل در صنعت اپتوالکترونیک به خصوص در دیود های نوری و سلول های خورشیدی کاربرد بسیاری دارد. در این مقاله، سیلیکان متخلخل از ویفر سیلیکان نوع p تحت چگالی جریان های 20, 25, 30, 35 mA/cm2 و زمان خوردگی و غلظت محلول الکترولیت ثابت در فرآیند آندی سازی ساخته شد. میزان تخلخل و ضخامت لایه ها با توجه به تصاویر SEM و توسط نرم افزار Digimizer محاسبه شدند. طبق آزمایش های انجام شده با افزایش چگالی جریان خوردگی، میزان تخلخل و ضخامت لایه ها افزایش می یابد.

واژه‌های کلیدی: رسانای نوری، سیلیکان، سیلیکان متخلخل.
متن کامل [PDF 362 kb]   (311 دریافت)    
نوع مطالعه: پژوهشي | موضوع مقاله: تخصصی
ارسال پیام به نویسنده مسئول

ارسال نظر درباره این مقاله
نام کاربری یا پست الکترونیک شما:

CAPTCHA code


XML   English Abstract   Print


Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:

Ghezelayagh M, sabet Dariani R. Fabrication of porous silicon at different porosities for optical conductive applications. ICOP & ICPET. 2016; 22 :640-643
URL: http://opsi.ir/article-1-988-fa.html

قزل ایاغ مریم، ثابت داریانی رضا. ساخت سیلیکان متخلخل در تخلخل های مختلف جهت کاربردهای رسانای نوری . کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران و کنفرانس مهندسی و فناوری فوتونیک ایران. 1394; 22 () :640-643

URL: http://opsi.ir/article-1-988-fa.html



جلد 22 - مجموعه مقالات پذیرفته و ارائه شده در بیست و دومین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران برگشت به فهرست نسخه ها
انجمن اپتیک و فوتونیک ایران Optics and Photonics Society of Iran
Persian site map - English site map - Created in 0.05 seconds with 30 queries by YEKTAWEB 3768