اشتراک در خبرنامه

لطفاً نشانی پست الکترونیک خود را برای دریافت اطلاعات و اخبار پایگاه در کادر زیر وارد کنید.


آمار سایت

  • کل کاربران ثبت شده: 1961 کاربر
  • کاربران حاضر در وبگاه: 0 کاربر
  • میهمانان در حال بازدید: 404 کاربر
  • تمام بازدید‌ها: 21762462 بازدید
  • بازدید ۲۴ ساعت گذشته: 13733 بازدید

کنفرانس های انجمن 



 

استفاده از مطالب ارائه شده در این پایگاه با ذکر منبع آزاد می باشد.

جلد 20 - مجموعه مقالات پذیرفته و ارائه شده در بیستمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران                   ICOP & ICPET _ INPC _ ICOFS سال20 صفحات 1056-1053 | برگشت به فهرست نسخه ها

XML English Abstract Print


Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:

parvizian M, rahimi ashtari F, goodarzi A, sabrlouie B, abbasi P. Structure investigation and residual stress optimization of Cr nanolayer on glass and GaAs substrates . ICOP & ICPET _ INPC _ ICOFS 2014; 20 :1053-1056
URL: http://opsi.ir/article-1-422-fa.html
پرویزیان مهدیه، رحیمی اشتری فریبا، گودرزی امیر، صبرلوی بهرنگ، عباسی پیمان. بررسی ساختاری و بهینه سازی تنش پسماند نانولایه کروم بر روی زیرلایه های شیشه و گالیم آرسناید . مقالات پذیرفته و ارائه شده در کنفرانس‌های انجمن اپتیک و فوتونیک ایران. 1392; 20 () :1053-1056

URL: http://opsi.ir/article-1-422-fa.html


1- مرکز ملی علوم و فنون لیزر ایران
چکیده:   (5282 مشاهده)
در این مقاله زبری سطح، آهنگ انباشت و تنش پسماند لایه نازک کروم بر زیرلایه‌های شیشه و گالیم آرسناید به کمک آنالیزهای AFM، ضخامت‌سنجی و روش انحنای زیرلایه مورد بررسی قرار گرفته است. بدین منظور لایه کروم با ضخامت‌های 120-40 نانومتر به روش کندوپاش رادیو فرکانسی بر زیرلایه‌های مذکور لایه‌نشانی شد. نتایج نشان می‌دهد آهنگ انباشت و زبری سطح لایه کروم روی شیشه بیشتر از گالیم‌ آرسناید است و در هر دو زیرلایه با افزایش ضخامت، زبری سطح افزایش می‌یابد. همچنین ضخامت بهینه تنش پسماند برای زیرلایه گالیم‌ آرسناید 58 نانومتر و برای شیشه 62 نانومتر بدست آمد.
متن کامل [PDF 409 kb]   (1237 دریافت)    
نوع مطالعه: پژوهشي | موضوع مقاله: تخصصی

ارسال پیام به نویسنده مسئول


بازنشر اطلاعات
Creative Commons License این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است.

کارگاه‌ها و مدارس

(پایان ثبت نام)



 

(پایان ثبت نام)


کارگاه‌های مرتبط با توسعه
کسب و کار فوتونیک
اردیبهشت و خرداد ۱۴۰۴
(در حال ثبت نام)



 

کلیه حقوق این وب سایت متعلق به انجمن اپتیک و فوتونیک ایران می باشد.

طراحی و برنامه نویسی : یکتاوب افزار شرق

© 2025 All Rights Reserved | Optics and Photonics Society of Iran

Designed & Developed by : Yektaweb