|
بررسی خواص ساختاری، ریخت شناسی و اپتیکی لایه های نازک نیمرسانای ترکیبی WO3/WS2
|
| آقای روح الله سلامتی زاده* 1، دکتر مهدی عدلی فرد1، دکتر سید احمد کتابی1 |
| 1- دانشگاه دامغان |
|
|
چکیده: (1399 مشاهده) |
لایه های نازک ترکیبی اکسید تنگستن/ سولفید تنگستن (WO3/WS2) بر روی زیرلایه ی شیشه با استفاده از روش شیمیایی افشانه ی تجزیه ی حرارتی و عملیات حرارتی در حضور گازهای آرگون و سولفید هیدروژن تهیه شدند. خواص ساختاری، ریخت شناسی سطح و اپتیکی لایه ها با استفاده از الگوی پراش اشعه ی (XRD)X، میکروسکوپ الکترونی روبشی (FESEM) و طیف سنج UV.Vis مورد بررسی قرار گرفتند. لایه های نازک (WO3/WS2) دارای فازهای اکسیدی مونوکلینیک و سولفیدی هگزاگونال و سطحی تقریباً یکنواخت هستند. ضریب جذب لایه ها در ناحیه ی مرئی از مرتبه ی 104cm-1 می باشد و گاف نواری مستقیم فازهای اکسیدی و سولفیدی به ترتیب در حدود 3/22eV و 2/49eV محاسبه شدند. |
|
| واژه‌های کلیدی: اکسید تنگستن، سولفید تنگستن، خواص ساختاری، خواص اپتیکی |
|
|
متن کامل [PDF 731 kb]
(427 دریافت)
|
|
نوع مطالعه: پژوهشي |
موضوع مقاله:
تخصصی
|
|
|
|
|
|
|
| ارسال پیام به نویسنده مسئول |
|
|
|
| ارسال نظر درباره این مقاله |
|
|
|
