|
مدل سازی کندوسوز حرارتی با لیزر موج پیوسته در لیتوگرافی جاروب لیزری بر لایه نازک مس
|
| آقای امید چوپانیان1، دکتر خسرو معدنی پور* 1 |
| 1- دانشگاه امیرکبیر |
|
|
چکیده: (2510 مشاهده) |
| پدیده کندوسوز در فرآیند برهم‌کنش لیزر با ماده، معمولا با لیزرهای پالسی روی می‌دهد. در مورد لیزرهای پیوسته وقتی شدت فرودی به اندازه کافی زیاد باشد نیز فرآیند کندوسوز حرارتی روی می‌دهد که منجر به تبخیر یا تصعید ماده خواهد شد. در این کار از یک لیزر پیوسته برای فرآیند تولید ماسک براساس لیتوگرافی جاروب لیزری استفاده شده است. مدلی برای استفاده از یک لیزر پیوسته در فرآیند کندوسوز ارائه شده است که در آن با توجه به ماهیت جاروبی لیتوگرافی، شار انرژی رسیده به هر نقطه به صورت پالس زمانی در نظر گرفته شده است. انرژی پالس لیزری با داشتن توان، اندازه لکه و سرعت جاروب نمونه تحت تابش، بدست می‌آید. سپس کندوسوز در بستر لایه نازک مس با این مدل شبیه سازی شده و تأثیر انرژی پالس لیزری بر این کندوسوز مورد بررسی قرار گرفته است. همچنین با رسم منحنی داده های بدست آمده از این مدل‌سازی، انرژی پالس آستانه کندوسوز لیزری برای لایه نازک مس با ضخامت 150 نانومتر محاسبه شده است. |
|
| واژه‌های کلیدی: کندوسوز حرارتی، لیتوگرافی جاروب لیزری، لایه نازک مس. |
|
|
متن کامل [PDF 618 kb]
(1062 دریافت)
|
|
نوع مطالعه: پژوهشي |
موضوع مقاله:
تخصصی
|
|
|
|
|
|
|
| ارسال پیام به نویسنده مسئول |
|
|
|
| ارسال نظر درباره این مقاله |
|
|
|
