اشتراک در خبرنامه
لطفاً نشانی پست الکترونیک خود را برای دریافت اطلاعات و اخبار پایگاه در کادر زیر وارد کنید.
آمار سایت
- کل کاربران ثبت شده: 1963 کاربر
- کاربران حاضر در وبگاه: 0 کاربر
- میهمانان در حال بازدید: 347 کاربر
- تمام بازدید‌ها: 22492610 بازدید
- بازدید ۲۴ ساعت گذشته: 11954 بازدید
کنفرانس های انجمن
همایش
اپتیک و فوتونیک،
بهمن 1403
(برگزار شد)
استفاده از مطالب ارائه شده در این پایگاه با ذکر منبع آزاد می باشد.
جلد 21 - مجموعه مقالات پذیرفته و ارائه شده در بیست و یکمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران
ICOP & ICPET _ INPC _ ICOFS سال21 صفحات 380-377 |
برگشت به فهرست نسخه ها
Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
Choupanian O, maadanipour K. Modeling of CW Laser Thermal Ablation in Laser Scanning Lithography on Copper Thin-Film . ICOP & ICPET _ INPC _ ICOFS 2015; 21 :377-380
URL: http://opsi.ir/article-1-541-fa.html
URL: http://opsi.ir/article-1-541-fa.html
چوپانیان امید، معدنی پور خسرو. مدل سازی کندوسوز حرارتی با لیزر موج پیوسته در لیتوگرافی جاروب لیزری بر لایه نازک مس . مقالات پذیرفته و ارائه شده در کنفرانس‌های انجمن اپتیک و فوتونیک ایران. 1393; 21 () :377-380
1- دانشگاه امیرکبیر
چکیده: (4840 مشاهده)
پدیده کندوسوز در فرآیند برهم‌کنش لیزر با ماده، معمولا با لیزرهای پالسی روی می‌دهد. در مورد لیزرهای پیوسته وقتی شدت فرودی به اندازه کافی زیاد باشد نیز فرآیند کندوسوز حرارتی روی می‌دهد که منجر به تبخیر یا تصعید ماده خواهد شد. در این کار از یک لیزر پیوسته برای فرآیند تولید ماسک براساس لیتوگرافی جاروب لیزری استفاده شده است. مدلی برای استفاده از یک لیزر پیوسته در فرآیند کندوسوز ارائه شده است که در آن با توجه به ماهیت جاروبی لیتوگرافی، شار انرژی رسیده به هر نقطه به صورت پالس زمانی در نظر گرفته شده است. انرژی پالس لیزری با داشتن توان، اندازه لکه و سرعت جاروب نمونه تحت تابش، بدست می‌آید. سپس کندوسوز در بستر لایه نازک مس با این مدل شبیه سازی شده و تأثیر انرژی پالس لیزری بر این کندوسوز مورد بررسی قرار گرفته است. همچنین با رسم منحنی داده های بدست آمده از این مدل‌سازی، انرژی پالس آستانه کندوسوز لیزری برای لایه نازک مس با ضخامت 150 نانومتر محاسبه شده است.
ارسال پیام به نویسنده مسئول
| بازنشر اطلاعات | |
 |
این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است. |
