در این تحقیق، لایه نازک اکسید ایندیوم قلع به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر زیرلایه شیشه تهیه شده است. سپس با استفاده از تکنیک بازتاب سنجی پرتو XRR)X) نمودار لگاریتمی شدت برحسب θ2 (θ زاویه تابش پرتو x) رسم شده است و با استفاده از داده های حاصل از XRR ضخامت ، چگالی و ناهمواری سطح لایه نازک محاسبه شده است نتایج حاصله توافق خوبی با نتایج حاصل از AFM و طیف عبوری UV-VIS_NIRاز خود نشان داده است.
tahernia A, raoufi D, eftekhari L. Determination of Thickness, Density and Roughness of ITO Thin Film by XRR Technique. ICOP & ICPET. 2015; 21 :177-180 URL: http://opsi.ir/article-1-505-fa.html
طاهرنیا عاطفه، رئوفی داوود، افتخاری لیلا. تعیین ضخامت، چگالی و ناهمواری لایه نازک ITO با استفاده از تکنیکXRR. کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران و کنفرانس مهندسی و فناوری فوتونیک ایران. 1393; 21 () :177-180