اشتراک در خبرنامه
لطفاً نشانی پست الکترونیک خود را برای دریافت اطلاعات و اخبار پایگاه در کادر زیر وارد کنید.
آمار سایت
- کل کاربران ثبت شده: 1963 کاربر
- کاربران حاضر در وبگاه: 0 کاربر
- میهمانان در حال بازدید: 90 کاربر
- تمام بازدید‌ها: 22481293 بازدید
- بازدید ۲۴ ساعت گذشته: 6734 بازدید
کنفرانس های انجمن
همایش
اپتیک و فوتونیک،
بهمن 1403
(برگزار شد)
استفاده از مطالب ارائه شده در این پایگاه با ذکر منبع آزاد می باشد.
جلد 21 - مجموعه مقالات پذیرفته و ارائه شده در بیست و یکمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران
ICOP & ICPET _ INPC _ ICOFS سال21 صفحات 180-177 |
برگشت به فهرست نسخه ها
Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
tahernia A, raoufi D, eftekhari L. Determination of Thickness, Density and Roughness of ITO Thin Film by XRR Technique. ICOP & ICPET _ INPC _ ICOFS 2015; 21 :177-180
URL: http://opsi.ir/article-1-505-fa.html
URL: http://opsi.ir/article-1-505-fa.html
طاهرنیا عاطفه، رئوفی داوود، افتخاری لیلا. تعیین ضخامت، چگالی و ناهمواری لایه نازک ITO با استفاده از تکنیکXRR. مقالات پذیرفته و ارائه شده در کنفرانس‌های انجمن اپتیک و فوتونیک ایران. 1393; 21 () :177-180
عاطفه طاهرنیا*1 
، داوود رئوفی1 ، لیلا افتخاری1
، داوود رئوفی1 ، لیلا افتخاری1
1- دانشگاه بوعلی سینا
چکیده: (5066 مشاهده)
در این تحقیق، لایه نازک اکسید ایندیوم قلع به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر زیرلایه شیشه تهیه شده است. سپس با استفاده از تکنیک بازتاب سنجی پرتو XRR)X) نمودار لگاریتمی شدت برحسب θ2 (θ زاویه تابش پرتو x) رسم شده است و با استفاده از داده های حاصل از XRR ضخامت ، چگالی و ناهمواری سطح لایه نازک محاسبه شده است نتایج حاصله توافق خوبی با نتایج حاصل از AFM و طیف عبوری UV-VIS_NIRاز خود نشان داده است.
ارسال پیام به نویسنده مسئول
| بازنشر اطلاعات | |
 |
این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است. |
