[صفحه اصلی ]   [Archive] [ English ]  
:: جلد 20 - مجموعه مقالات پذیرفته و ارائه شده در بیستمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران ::
ICOP & ICPET سال20 صفحات 697-700 برگشت به فهرست نسخه ها
ساخت و لایه نشانی لایه نازک ضد بازتاب نانو متخلخل سیلیکا) (SiO2 با روش رسوب گذاری لایه به لایه بر روی زیر لایه شیشه
محمدرضا مجاب1، اکبر اسحاقی* 1
1- دانشگاه صنعتی مالک اشتر
چکیده:   (4190 مشاهده)
چکیده - در این تحقیق، لایه نازک نانو متخلخل سیلیکا (SiO2 ) به روش رسوب گذاری لایه به لایه به منظور ساخت پوشش ضد بازتاب مورد استفاده در انواع مصارف تجاری و صنعتی، بر روی زیر لایه شیشه ای، ساخته و لایه نشانی شد. خواص اپتیکی و مورفولوژی سطح با استفاده از تکنیک های UV/vis spectrophotometer و FE-SEM بررسی شدند. نتایج حاصل نشان دادند که ساختار نانو متخلخل سیلیکا با متوسط اندازه تخلخل 50 نانومتر بر روی سطح شیشه تشکیل شده است و حداکثر عبور %97 و حداقل انعکاس %1.8 در بازه طول موج نور مرئی (550 نانو متر) حاصل شد.
واژه‌های کلیدی: ضد بازتاب، لایه نازک، نانو متخلخل
متن کامل [PDF 555 kb]   (1214 دریافت)    
نوع مطالعه: پژوهشي | موضوع مقاله: تخصصی
ارسال پیام به نویسنده مسئول

ارسال نظر درباره این مقاله
نام کاربری یا پست الکترونیک شما:

CAPTCHA code


XML   English Abstract   Print


Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:

mojab M, Eshaghi A. Fabrication and coating of nano-porous silica anti-reflection thinfilm via layer by layer deposition process on glass substrate . ICOP & ICPET. 2014; 20 :697-700
URL: http://opsi.ir/article-1-298-fa.html

مجاب محمدرضا، اسحاقی اکبر. ساخت و لایه نشانی لایه نازک ضد بازتاب نانو متخلخل سیلیکا) (SiO2 با روش رسوب گذاری لایه به لایه بر روی زیر لایه شیشه . کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران و کنفرانس مهندسی و فناوری فوتونیک ایران. 1392; 20 () :697-700

URL: http://opsi.ir/article-1-298-fa.html



جلد 20 - مجموعه مقالات پذیرفته و ارائه شده در بیستمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران برگشت به فهرست نسخه ها
انجمن اپتیک و فوتونیک ایران Optics and Photonics Society of Iran
Persian site map - English site map - Created in 0.05 seconds with 30 queries by YEKTAWEB 3781