اشتراک در خبرنامه

لطفاً نشانی پست الکترونیک خود را برای دریافت اطلاعات و اخبار پایگاه در کادر زیر وارد کنید.


آمار سایت

  • کل کاربران ثبت شده: 1961 کاربر
  • کاربران حاضر در وبگاه: 0 کاربر
  • میهمانان در حال بازدید: 270 کاربر
  • تمام بازدید‌ها: 21790370 بازدید
  • بازدید ۲۴ ساعت گذشته: 12581 بازدید

کنفرانس های انجمن 



 

استفاده از مطالب ارائه شده در این پایگاه با ذکر منبع آزاد می باشد.

سال 28، شماره 2 - ( مجموعه مقالات پذیرفته و ارائه شده در بیست و هشتمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران 1400 )                   ICOP & ICPET _ INPC _ ICOFS سال28 صفحات 532-529 | برگشت به فهرست نسخه ها

XML English Abstract Print


Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:

Ansari N, Sohrabi A, mirbaghestan K. Wavelength adjustability of Defect modes by Altering the Thickness of Defect layers in Defective Photonic Crystal Based on MoS2 Monolayer. ICOP & ICPET _ INPC _ ICOFS 2022; 28 (2) :529-532
URL: http://opsi.ir/article-1-2673-fa.html
انصاری نرگس، سهرابی عطیه، میرباغستان کیمیا. تنظیم پذیری طول موج مدهای نقص با تغییر ضخامت نقص در بلور فوتونی نقص دار بر پایه‌ ی MoS2. مقالات پذیرفته و ارائه شده در کنفرانس‌های انجمن اپتیک و فوتونیک ایران. 1400; 28 (2) :529-532

URL: http://opsi.ir/article-1-2673-fa.html


چکیده:   (723 مشاهده)
امروزه بلورهای دوبعدی مولیبدن دی سولفات،MoS2، به علت داشتن جذب بالا در ضخامت نانومتری‌، قابلیت چشمگیری در کاربردهای اپتوالکترونیکی یافته ‏اند. اما همچنان برای استفاده در ابزارهای اپتوالکترونیک لازم است این میزان جذب افزایش یابد. یکی از روش‌های مرسوم برای افزایش جذب، قرارگیری تک‌لا‌یه‌ی MoS2 به صورت نقص در بلور فوتونی می‌باشد. در این مقاله ازساختار بلور فوتونی با سه نقص به صورت DMD که باعث افزایش جایگزیدگی موج در ساختار می‏ شود، استفاده شده است که در آن D و M به ترتیب SiO2 و MoS2 می‏ باشند. تاثیر تغییر ضخامت لایه ‏ی D، بر میزان جذب و طول موج مدهای نقص بررسی شده است. مشاهده می‏ شود تغییر ضخامت لایه‏ ی D، باعث تنظیم پذیری طول موج و بهبود تفکیک پذیری مدهای نقص می‏ شود.
متن کامل [PDF 506 kb]   (514 دریافت)    
نوع مطالعه: تجربی | موضوع مقاله: تخصصی

ارسال پیام به نویسنده مسئول


بازنشر اطلاعات
Creative Commons License این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است.

کارگاه‌ها و مدارس

(پایان ثبت نام)



 

(پایان ثبت نام)


کارگاه‌های مرتبط با توسعه
کسب و کار فوتونیک
اردیبهشت و خرداد ۱۴۰۴
(در حال ثبت نام)



 

کلیه حقوق این وب سایت متعلق به انجمن اپتیک و فوتونیک ایران می باشد.

طراحی و برنامه نویسی : یکتاوب افزار شرق

© 2025 All Rights Reserved | Optics and Photonics Society of Iran

Designed & Developed by : Yektaweb