برقراری ارتباط
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
URL: http://opsi.ir/article-1-1246-fa.html
در این مقاله، اثر فوتورسانندگی ماندگار در ساختار دور آلاییده معکوس p-Si/SiGe/Si رشد یافته به روش برآرایی پرتو مولکولی ، بررسی شده است. در لایه آلیاژی این ساختارها (SiGe) گاز حفرهای دوبعدی 2DHG با چگالی سطحی nh مشاهده شده است که با تابش نور میتوان چگالی آنرا تغییر داد. نتایج تجربی بدست آمده با استفاده از آزمایش اندازه گیری اثر هال مشخص میکند که تابش نور قرمز به ساختار در دمای 4.2 چگالی گاز حفرهای دوبعدی و رسانندگی ساختار را افزایش میدهد. این افزایش ناشی از جذب نور در لایه پوششی ساختار و تولید زوج الکترون- حفره و خنثی شدن بارهای سطحی است.
بازنشر اطلاعات | |
این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است. |