جلد 21 - مجموعه مقالات پذیرفته و ارائه شده در بیست و یکمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران
ICOP & ICPET _ INPC _ ICOFS سال21 صفحات 976-973 |
برگشت به فهرست نسخه ها
1- دانشگاه شهید بهشتی
چکیده: (4259 مشاهده)
در این مقاله ساختار میدان مغناطیسی برای یک چشمه یونی پنینگ با استفاده از آهنربای دائم بهینه سازی شده است. این چشمه یونی برای شتاب دهنده الکترواستاتیکی keV200 طراحی شده است. با شبیه سازی رفتار ذرات درون چشمه یونی، با استفاده از برنامه شبیه سازی CST، مناسب ترین آرایش مگنت برای این چشمه یونی انتخاب شده است. هدف از این طراحی، بالا بردن کارایی چشمه با افزایش چگالی پلاسما درون چشمه است که بر ویژگی های باریکه اثر خواهد گذاشت. سیستم مغناطیسی طراحی شده شامل دو آهنربای حلقه ای با فاصله یکسان از یکدیگر در اطراف آند است. این آرایش میدان مغناطیسی، مانند آینه مغناطیسی عمل خواهد کرد و باعث شده ذرات بیشتری درون چشمه به دام انداخته شود، بنابراین چگالی ذرات قبل از تشکیل پلاسما افزایش یافته و منجر به تشکیل پلاسمای چگالتری خواهد شد.
| بازنشر اطلاعات | |
 |
این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است. |