به منظور مطالعه آستانه تخریب لیزری، لایه های TiO2 با روش تبخیر بیم الکترونی بر روی زیر لایه Bk7 لایه نشانی شدند. سپس به مدت 3 ساعت با گرادیانهای مختلف دمایی تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند. سپس طیف UV_visible نمونه ها و ضریب شکست آنها بدست آمدند و با اطلاعات موجود گاف انرژی هر نمونه محاسبه شد. با استفاده از روابط موجود، مقدارهای عددی گاف انرژی و مقادیر، میزان آستانه تخریب لیزری در محدوده لیزرهای فمتوثانیه در طول موج nm 1030 و عرض پالس 20-500 فمتوثانیه محاسبه شد

واژه‌های کلیدی: تخریب لیزری در رژیم فمتوثانیه، تخریب لیزری لایه های اپتیکی، آستانه تخریب لیزری TiO2

متن کامل [PDF 683 kb]   (1548 دریافت)