اشتراک در خبرنامه
لطفاً نشانی پست الکترونیک خود را برای دریافت اطلاعات و اخبار پایگاه در کادر زیر وارد کنید.
آمار سایت
- کل کاربران ثبت شده: 1961 کاربر
- کاربران حاضر در وبگاه: 0 کاربر
- میهمانان در حال بازدید: 245 کاربر
- تمام بازدید‌ها: 21760974 بازدید
- بازدید ۲۴ ساعت گذشته: 13139 بازدید
کنفرانس های انجمن
همایش
اپتیک و فوتونیک،
بهمن 1403
(برگزار شد)
استفاده از مطالب ارائه شده در این پایگاه با ذکر منبع آزاد می باشد.
جلد 20 - مجموعه مقالات پذیرفته و ارائه شده در بیستمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران
ICOP & ICPET _ INPC _ ICOFS سال20 صفحات 732-729 |
برگشت به فهرست نسخه ها
Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
Rashidian Vaziri M R, Hajiesmaeilbaigi F, Golian Y, Motamedi A. Pulsed Laser Deposition of Zinc Thin Films and Investigation of Their Optical Limiting Properties. ICOP & ICPET _ INPC _ ICOFS 2014; 20 :729-732
URL: http://opsi.ir/article-1-306-fa.html
URL: http://opsi.ir/article-1-306-fa.html
رشیدیان وزیری محمدرضا، حاج اسماعیل بیگی فرشته، گلیان یاسمن، معتمدی اسماءالسادات. لایه‌نشانی لیزر تپی لایه‌های نازک روی و بررسی خواص محدودسازی نوری آن‌ها. مقالات پذیرفته و ارائه شده در کنفرانس‌های انجمن اپتیک و فوتونیک ایران. 1392; 20 () :729-732
1- سازمان انرژی اتمی ایران
چکیده: (6630 مشاهده)
در این مقاله، ساخت لایه‌های نازک روی با استفاده از روش لایه‌نشانی لیزر تپی شرح داده شده است. جهت مشخصه‌یابی لایه‌ها، طیف جذب نوری در ناحیه مرئی-فرابنفش و نیز تصاویر میکروسکوپ نیروی اتمی مورد استفاده قرار گرفته است. هم‌چنین روش اندازه‌گیری حد نوری لایه‌ها و نتایج حاصل از آن برای اندازه‌های متفاوت روزنه ارائه شده است. باتوجه به نتایج به‌دست آمده، با افزایش قطر روزنه، توان بحرانی مورد نیاز برای مشاهده اثرات غیرخطی در لایه‌های نازک به‌دلیل حذف اثر شکست غیرخطی، افزایش می‌یابد. افزایش توان بحرانی ناشی از جذب غیرخطی است که رفتار محدودسازی لایه‌ها را تعیین می‌کند.
ارسال پیام به نویسنده مسئول
| بازنشر اطلاعات | |
 |
این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است. |
