fa تعیین ضخامت، چگالی و ناهمواری لایه نازک ITO با استفاده از تکنیکXRR تخصصی Special پژوهشي Research در این تحقیق، لایه نازک اکسید ایندیوم قلع به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر زیرلایه شیشه تهیه شده است. سپس با استفاده از تکنیک بازتاب سنجی پرتو XRR)X) نمودار لگاریتمی شدت برحسب θ2 (θ زاویه تابش پرتو x) رسم شده است و با استفاده از داده های حاصل از XRR ضخامت ، چگالی و ناهمواری سطح لایه نازک محاسبه شده است نتایج حاصله توافق خوبی با نتایج حاصل از AFM و طیف عبوری UV-VIS_NIRاز خود نشان داده است. In this paper Indium Tin Oxide (ITO) thin films have been prepared on glass substrate by electron beam evaporation method. Then we use the X-ray reflectivity technique (XRR), and plot logarithmic chart of the intensity versus 2θ (θ is the incidence angle of x-ray). So, using the XRR data we compute the thickness, density and roughness of the ITO thin films. The results showed good agreement with AFM and transmittance spectra on UV-VIS-NIR range لایه های نازک, بازتاب پرتو XRR)X), اکسید ایندیوم قلع(ITO) Thin film,X-Ray reflectivity (XRR),Indium Tin Oxide (ITO). 177 180 http://opsi.ir/browse.php?a_code=A-10-1-485&slc_lang=fa&sid=1 atefeh tahernia عاطفه طاهرنیا atefeh_t2001@yahoo.com 10031947532846002876 10031947532846002876 Yes Bu Ali Sina university دانشگاه بوعلی سینا davood raoufi داوود رئوفی d_raoufi@ymail.com 10031947532846002877 10031947532846002877 No Bu Ali Sina university دانشگاه بوعلی سینا leila eftekhari لیلا افتخاری eftekhari.leila7@gmail.com 10031947532846002878 10031947532846002878 No Bu Ali Sina university دانشگاه بوعلی سینا