fa ساخت و لایه نشانی لایه نازک ضد بازتاب نانو متخلخل سیلیکا) (SiO2 با روش رسوب گذاری لایه به لایه بر روی زیر لایه شیشه تخصصی Special پژوهشي Research چکیده - در این تحقیق، لایه نازک نانو متخلخل سیلیکا (SiO2 ) به روش رسوب گذاری لایه به لایه به منظور ساخت پوشش ضد بازتاب مورد استفاده در انواع مصارف تجاری و صنعتی، بر روی زیر لایه شیشه ای، ساخته و لایه نشانی شد. خواص اپتیکی و مورفولوژی سطح با استفاده از تکنیک های UV/vis spectrophotometer و FE-SEM بررسی شدند. نتایج حاصل نشان دادند که ساختار نانو متخلخل سیلیکا با متوسط اندازه تخلخل 50 نانومتر بر روی سطح شیشه تشکیل شده است و حداکثر عبور %97 و حداقل انعکاس %1.8 در بازه طول موج نور مرئی (550 نانو متر) حاصل شد. Abstract- In this study, nano-porous silica (SiO2) anti-reflection thinfilm fabricated on glass substrate via layer by layer deposition process. Optical properties and surface morphology was investigated by using UV / vis spectrophotometer and FE-SEM. The results showed that nanostructured porous silica with an average pore size of 50 nm is formed on the glass surface and a maximum transmittance of 97% and a minimum reflection of 1.8% in the wavelength range of visible light (550 nm) was obtained. ضد بازتاب ,لایه نازک, نانو متخلخل anti-reflection,nano-porous,thinfilm 697 700 http://opsi.ir/browse.php?a_code=A-10-1-278&slc_lang=fa&sid=1 mohamadreza mojab محمدرضا مجاب lokam121@yahoo.com 10031947532846002227 10031947532846002227 No Maleke Ashtar university of technology دانشگاه صنعتی مالک اشتر Akbar Eshaghi اکبر اسحاقی EShaghi.akbar@gmail.com 10031947532846002228 10031947532846002228 Yes Maleke Ashtar university of technology دانشگاه صنعتی مالک اشتر