RT - Journal Article T1 - Investigation of the Sputtering Effects on the Amorphous Carbon Films’ Deposition JF - opsi YR - 2015 JO - opsi VO - 21 IS - 0 UR - http://opsi.ir/article-1-666-fa.html SP - 661 EP - 664 K1 - Amorphous carbon films K1 - Ion implantation K1 - Sputtering K1 - Substrate bias AB - در این تحقیق به بررسی اثر کندوپاش ناشی از برخورد یون‌های پرانرژی با زیرلایه در حین لایه‌نشانی فیلم‌های آمورف کربنی پرداخته می-شود. لذا، حرکت یون‌ها و ذرات خنثی در غلاف پلاسما شبیه‌سازی شده و انرژی آن‌ها در هنگام برخورد با زیرلایه محاسبه می‌گردد. سپس این انرژی بعنوان ورودی در کد SRIM وارد شده و اثر کندوپاش ناشی از آن تحت ولتاژهای بایاس و درجه یونیزاسیون‌های مختلف، بدست می‌آید. نتایج نشان می‌دهد که کندوپاش یون‌های پرانرژی در رشد فیلم‌های آمورف کربنی تاثیر بسزایی ندارد و حتی با افزایش ولتاژ زیرلایه تحت تاثیر کاشت یون‌ها قرار گرفته و مقدار آن کاهش می‌یابد. LA eng UL http://opsi.ir/article-1-666-fa.html M3 ER -