TY - JOUR JF - opsi JO - ICOP & ICPET _ INPC _ ICOFS VL - 21 IS - 0 PY - 2015 Y1 - 2015/3/01 TI - Improvement of Femtosecond laser induced damage threshold of TiO2 optical films by using controlled annealing process TT - افزایش آستانه تخریب لیزری لایه های نازک TiO2 در رژیم تابشی لیزرهای فمتوثانیه با کنترل عملیات حرارتی N2 - به منظور مطالعه آستانه تخریب لیزری، لایه های TiO2 با روش تبخیر بیم الکترونی بر روی زیر لایه Bk7 لایه نشانی شدند. سپس به مدت 3 ساعت با گرادیانهای مختلف دمایی تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند. سپس طیف UV_visible نمونه ها و ضریب شکست آنها بدست آمدند و با اطلاعات موجود گاف انرژی هر نمونه محاسبه شد. با استفاده از روابط موجود، مقدارهای عددی گاف انرژی و مقادیر، میزان آستانه تخریب لیزری در محدوده لیزرهای فمتوثانیه در طول موج nm 1030 و عرض پالس 20-500 فمتوثانیه محاسبه شد SP - 1029 EP - 1032 AU - Bananej, Alireza AU - Khatiri, Mahdieh AU - Parsa, Zohreh AD - Atomic energy organization of iran KW - Femtosecond laser induced damage KW - laser damage of optical thin films KW - induced damage threshold of TiO2 UR - http://opsi.ir/article-1-509-fa.html ER -