RT - Journal Article T1 - Fabrication and coating of nano-porous silica anti-reflection thinfilm via layer by layer deposition process on glass substrate JF - opsi YR - 2014 JO - opsi VO - 20 IS - 0 UR - http://opsi.ir/article-1-298-fa.html SP - 697 EP - 700 K1 - anti-reflection K1 - nano-porous K1 - thinfilm AB - چکیده - در این تحقیق، لایه نازک نانو متخلخل سیلیکا (SiO2 ) به روش رسوب گذاری لایه به لایه به منظور ساخت پوشش ضد بازتاب مورد استفاده در انواع مصارف تجاری و صنعتی، بر روی زیر لایه شیشه ای، ساخته و لایه نشانی شد. خواص اپتیکی و مورفولوژی سطح با استفاده از تکنیک های UV/vis spectrophotometer و FE-SEM بررسی شدند. نتایج حاصل نشان دادند که ساختار نانو متخلخل سیلیکا با متوسط اندازه تخلخل 50 نانومتر بر روی سطح شیشه تشکیل شده است و حداکثر عبور %97 و حداقل انعکاس %1.8 در بازه طول موج نور مرئی (550 نانو متر) حاصل شد. LA eng UL http://opsi.ir/article-1-298-fa.html M3 ER -