TY - JOUR T1 - Deposition of Titanium Dioxide Thin films by Dip and Spin coating Techniques TT - تهیه لایه‏های نازک تیتانیم دی‌اکسید روی اسلاید شیشه‌ای با روش غوطه‏وری و چرخشی JF - opsi JO - opsi VL - 20 IS - 0 UR - http://opsi.ir/article-1-244-fa.html Y1 - 2014 SP - 509 EP - 512 KW - Sol-Gel KW - Titanium Dioxide KW - Thin Film N2 - چکیده - در این تحقیق برای تهیه لایه‏های نازک دی‏اکسید تیتانیوم به روش غوطه‏وری و چرخشی از نانوذرات تیتانیم دی‏اکسید تهیه شده با روش رسوب از نمک فلزی استفاده شد. برای مشخصه‌یابی ساختاری، مورفولوژی و نوری نانوذرات و لایه‌های تهیه شده از دستگاه‏های XRD، SEM و UV- VIS استفاده شد. طیف XRD تشکیل نانوذرات تیتانیم دی اکسید در فاز روتایل را نشان می‌دهد و تصویر SEM نشان می‏دهد که ذرات کروی شکل بوده و اندازه آن‏ها در حد 58 نانومتر است. در نهایت با استفاده از داده‏های طیف عبوری UV- VIS مقدار گاف نواری مستقیم لایه‏های تهیه شده eV 84/3 بدست آمد. M3 ER -