TY - JOUR T1 - The influence of nitrogen content on the physical properties Cu3N thin films Produced by DC Magnetron Sputtering TT - بررسی تأثیر مقدار نیتروژن بر خواص فیزیکی لایه‌های نازک نیتریدمس تهیه شده به روش کندوپاش مگنترونی DC JF - opsi JO - opsi VL - 20 IS - 0 UR - http://opsi.ir/article-1-200-fa.html Y1 - 2014 SP - 413 EP - 416 KW - Thin film KW - Cu3N KW - DC magnetron sputtering KW - Four-point probe KW - Atomic Force Microscopy N2 - در این کار تجربی فیلم های نازک نیترید مس به روش کندوپاش مگنترونی DC برروی زیرلایه های شیشه ای در یک مخلوطی از گاز نیتروژن و آرگون نهشت داده شده اند. در حالی که شار کل گاز در داخل دستگاه کندوپاش ثابت نگه داشته می شود تأثیر محتوای نیتروژن بر روی جهت گیری بلوری، مورفولوژی سطح و خواص رسانندگی سطحی نمونه ها به ترتیب توسط پراکندگی پرتو ایکس (XRD)، میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) و مقاومت سنج سطحی چهار سوزنی بررسی می شود. M3 ER -