TY - JOUR T1 - Experimental investigation of substrate temperature and deposition rate on physical properties of ITO thin film TT - بررسی اثر دما و آهنگ لایه‌نشانی بر خواص فیزیکی فیلم ‌نازک نانومتری ITO JF - opsi JO - opsi VL - 24 IS - 0 UR - http://opsi.ir/article-1-1633-fa.html Y1 - 2018 SP - 45 EP - 48 KW - ITO thin film KW - Substrate temperature KW - Deposition rate KW - DC magnetron sputtering N2 - از مباحث با اهمیت در طراحی و ساخت قطعات نیمرسانای آلی، ساخت زیرلایه­ با ویژگی های اپتیکی و فیزیکی مناسب است. در این مطالعه تأثیر دماهای مختلف حین لایه­نشانی و همچنین تغییر در آهنگ لایه­نشانی بر زبری سطح و مقاومت الکتریکی لایه­های نازک رسانای شفاف که بر زیرلایه ای از جنس BK7 لایه­نشانی شده است، مورد بررسی قرار گرفت. بدین منظور لایه­نازک نانومتری رسانای شفاف اکسید اینیدیوم آلاییده شده با قلع (ITO) روی زیرلایه به روش کندوپاش DC در دما و آهنگ­های لایه­نشانی مختلف، پوشش داده شده است. تأثیر گرمادهی در دو محیط خلأ و هوا پس از لایه­نشانی بررسی شد. طیف عبوری در ناحیه مرئی بوسیله دستگاه طیف سنج دو پرتویی و مقاومت الکتریکی سطحی پوشش توسط دستگاه پروپ چهارسر اندازه­گیری شده است. کیفیت و زبری سطح قطعه توسط میکروسکوپ AFM بررسی شد. نتایج حاصل از آنالیزها نشان داد که کاهش آهنگ لایه­نشانی، تأثیر بسزایی در کاهش زبری سطح خطی فیلم و مقاومت الکتریکی نمونه­ها دارد. M3 ER -