TY - JOUR T1 - Design and fabrication of tri-layer WO3/Cu/WO3 as transparent electrode in optoelectronic devices and investigating the influence of annealing on its electrical and optical properties TT - طراحی و ساخت سه لایه WO3/Cu/WO3 به عنوان الکترود شفاف وسایل اپتوالکترونیکی و بررسی تأثیر دمای بازپخت روی ویژگی های الکتریکی و اپتیکی آن JF - opsi JO - opsi VL - 23 IS - 0 UR - http://opsi.ir/article-1-1167-fa.html Y1 - 2017 SP - 853 EP - 856 KW - WO3/Cu/WO3 KW - Sheet resistance KW - Optical transmittance KW - Annealing N2 - در این کار ابتدا سه لایه ­ای WO3/Cu/WO3(WCW) طراحی و ضخامت های بهینه لایه­ ها برای رسیدن به مقاومت سطحی پایین و شفافیت اپتیکی بالا در ناحیه مرﺋﻲ محاسبه شد که ضخامت های بهینه به صورت air/WO3(42nm)/Cu(12nm)/WO3(46nm)/glass به­ دست آمد.. سپس سه­­ لایه ­ایهای WCW با ضخامت های بهینه محاسبه شده روی زیر لایه­ های شیشه­ ای با روش تبخیر حرارتی انباشت شدند. بعدد از لایه­ نشانی، نمونه­ ها در هوا در دماهای 80، 150 و 220 درجه سانتیگراد بازپخت شدند و تأثیر بازپخت در دماهای مختلف بر رویی مقاومت سطحی و عبور اپتیکی در ناحیه مرﺋﻲ بررسی شد. در نهایت سه لایه­ ای WCW با مقاومت سطحی (□/Ω) 7 و تراگسیل در ناحیه مرﺋﻲ 77% و فاکتور شایستگی (mΩ-1) 6/1 .برای بازپخت 150 درجه سانتیگراد به ­دست آمد. M3 ER -