در این مقاله اثر راستای میدان مغناطیسی خارجی بر تابش طیفی پلاسمای حاصل از برهمکنش پالس لیزر با فلز مس مورد بررسی قرار گرفته است. برای مشاهده اثر میدان مغناطیسی بر پلاسما از دو چیدمان متفاوت استفاده شده است. در این دو چیدمان، از دو لیزر Nd:YAG به ترتیب با پهناهای پالس ns 30، ns 15 و انرژی های mJ 150 و mJ 120 جهت تولید پلاسما و از طیف سنج نوری جهت ثبت تابش استفاده شد. از آهنرباهای دائمی T 6/0 و T 4/0 برای ایجاد میدانی یکنواخت و ایستا در پلاسما استفاده گردید. در هر دو آزمایش صورت گرفته افزایش تابش پلاسما در حضور میدان مغناطیسی مشاهده گردید. همچنین مشاهده گردید که تغییر راستای میدان مغناطیسی تاثیر بسزایی بر تابش طیفی پلاسما ندارد.

واژه‌های کلیدی: پلاسما، میدان مغناطیسی، تابش طیفی

متن کامل [PDF 433 kb]   (1747 دریافت)