:: جلد 20 - مجموعه مقالات پذیرفته و ارائه شده در بیستمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران ::
ICOP & ICPET سال20 صفحات 893-896 برگشت به فهرست نسخه ها
طراحی فرآیند پولیش میانی برای بهینه سازی سطح فلز مس
آقای کوروش ساسانی* 1، آقای میروحید شفیعی جود1
1- مرکز ملی علوم و فنون لیزر ایران
چکیده:   (2728 مشاهده)
فرآیندهای پرداخت سطحی، در ساخت ادوات نیمه‌هادی و قطعات اپتوالکترونیکی دارای اهمیت ویژه‌ای هستند که از جمله آنها می‌توان به فرآیندهای سایش و پولیش کاری اشاره کرد. کیفیت انجام این فرآیندها بر روی فلز مس نقش به سزایی در تولید چاهک‌های گرمایی دارند. با توجه به اهمیت ساخت و تولید بهینه چاهک‌های گرمایی از جنس فلز مس، فرآیند دیگری مورد نیاز است تا بتوان عملیات پرداخت نهایی بر روی فلز مس را با کیفیت مطلوب‌تری انجام داد. در همین راستا فرآیند پولیش میانی معرفی شده است تا به کمک آن بتوان عمل بهینه سازی سطح و ویژگیهای سطحی را انجام داد. در کنار فرآیند سایش که هدف از آن کاهش ضخامت فلز مس است، و همچنین فرآیند پولیش کاری که با هدف صیقل دهی و آیینه‌ای کردن سطح انجام می‌گیرد، فرآیند پولیش میانی به منظور ایجاد سطحی با سختی کمتر و در نتیجه نرمی زیاد و همینطور تختی و همواری ایده‌آل در بین دو فرآیند مذکور قابل انجام است.
واژه‌های کلیدی: پولیش میانی، مس. پولیش کاری، تختی، سختی سطحی
متن کامل [PDF 556 kb]   (861 دریافت)    
نوع مطالعه: پژوهشي | موضوع مقاله: تخصصی


XML   English Abstract   Print



جلد 20 - مجموعه مقالات پذیرفته و ارائه شده در بیستمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران برگشت به فهرست نسخه ها