جلد 20 - مجموعه مقالات پذیرفته و ارائه شده در بیستمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران
ICOP & ICPET _ INPC _ ICOFS سال20 صفحات 812-809 |
برگشت به فهرست نسخه ها
سامان صفوی* 
1، علی مشرقی1 ، مهدیه سلمانی1
1، علی مشرقی1 ، مهدیه سلمانی1
1- دانشگاه صنعتی شیراز
چکیده: (6270 مشاهده)
روش رسوب دهی الکتروفورتیک، یک روش موثر برای ساخت فتوآند نانو متخلخل TiO2 مورد استفاده در سلول های خورشیدی حساس شده با رنگینه محسوب می گردد. در این تحقیق فیلم نانو متخلخل TiO2 با رسوب دهی الکتروفورتیک نانوذرات TiO2 بر روی شیشه اکسید شفاف رسانا تولید گردید. در حین فرآیند فاصله بین دو الکترود متغیرانتخاب گردید. فوتوآند حاصل توسط محلول پایه اتانولی مرکروکرم حساس گردید. خواص فوتوولتائیک سلول حاصل تحت نور لامپ زنون بررسی شد. مشاهده گردید با کاهش فاصله بین دو الکترود ضخامت پوشش افزایش و جریان مدار کوتاه و بازده سلول افزایش می یابد اما ولتاژ مدار باز کاهش می یابد.
| بازنشر اطلاعات | |
 |
این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است. |