حمایت از انجمن


برای حمایت لطفا روی بخش پایین کلیک کنید.
 
حمایت مالی از انجمن اپتیک و فوتونیک ایران
جلد 20 - مجموعه مقالات پذیرفته و ارائه شده در بیستمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران                   ICOP & ICPET _ INPC _ ICOFS سال20 صفحات 700-697 | برگشت به فهرست نسخه ها

XML English Abstract Print


Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:

mojab M, Eshaghi A. Fabrication and coating of nano-porous silica anti-reflection thinfilm via layer by layer deposition process on glass substrate . ICOP & ICPET _ INPC _ ICOFS 2014; 20 :697-700
URL: http://opsi.ir/article-1-298-fa.html
مجاب محمدرضا، اسحاقی اکبر. ساخت و لایه نشانی لایه نازک ضد بازتاب نانو متخلخل سیلیکا) (SiO2 با روش رسوب گذاری لایه به لایه بر روی زیر لایه شیشه . مقالات پذیرفته و ارائه شده در کنفرانس‌های انجمن اپتیک و فوتونیک ایران. 1392; 20 () :697-700

URL: http://opsi.ir/article-1-298-fa.html


1- دانشگاه صنعتی مالک اشتر
چکیده:   (6059 مشاهده)
چکیده - در این تحقیق، لایه نازک نانو متخلخل سیلیکا (SiO2 ) به روش رسوب گذاری لایه به لایه به منظور ساخت پوشش ضد بازتاب مورد استفاده در انواع مصارف تجاری و صنعتی، بر روی زیر لایه شیشه ای، ساخته و لایه نشانی شد. خواص اپتیکی و مورفولوژی سطح با استفاده از تکنیک های UV/vis spectrophotometer و FE-SEM بررسی شدند. نتایج حاصل نشان دادند که ساختار نانو متخلخل سیلیکا با متوسط اندازه تخلخل 50 نانومتر بر روی سطح شیشه تشکیل شده است و حداکثر عبور %97 و حداقل انعکاس %1.8 در بازه طول موج نور مرئی (550 نانو متر) حاصل شد.
واژه‌های کلیدی: ضد بازتاب، لایه نازک، نانو متخلخل
متن کامل [PDF 555 kb]   (2123 دریافت)    
نوع مطالعه: پژوهشي | موضوع مقاله: تخصصی

ارسال پیام به نویسنده مسئول


بازنشر اطلاعات
Creative Commons License این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است.

کلیه حقوق این وب سایت متعلق به انجمن اپتیک و فوتونیک ایران می باشد.

طراحی و برنامه نویسی : یکتاوب افزار شرق

© 2024 All Rights Reserved | Optics and Photonics Society of Iran

Designed & Developed by : Yektaweb