جلد 25 - مجموعه مقالات پذیرفته و ارائه شده در بیست و پنجمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران
ICOP & ICPET _ INPC _ ICOFS سال25 صفحات 1080-1077 |
برگشت به فهرست نسخه ها
1- دانشگاه سمنان
2- دانشگاه صنعتی وین
2- دانشگاه صنعتی وین
چکیده: (1719 مشاهده)
تولید ساختارهای میکرونی به روش فوتوپلیمریزاسیون با استفاده از لیزر دارای محدودیت رزولوشن به علت پدیده پراش است که توسط طول موج لیزر و اپتیک مورد استفاده تعیین می شود. برای رسیدن به رزولوشن بهتر در حد کسری از طول موج تنها روش استفاده از جذب چند فوتونی مثل جذب دو فوتونی می باشد. در این کار نتایج اندازه گیری سطح مقطع جذب دو فوتونی برای یک آغازگر دو فوتونی با استفاده از تکنیک زی-اسکن باز ارائه شده و سپس از این آغازگر برای تولید میکرو ساختار پلیمری بر پایه جذب دو فوتونی استفاده شده. ساختارهای تولید شده دارای رزولوشن چند صد نانو متر می باشند که بسیار بهتر از حد تحمیل شده توسط پراش برای چیدمان استفاده شده برای فرایند فوتوپلیمریزاسیون دو فوتونی می باشد.
| بازنشر اطلاعات | |
 |
این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است. |